半導體磊晶機台
產品介紹
大陽日酸的MOCVD(有機金屬化學氣相沉積)設備是基於該公司多年來經過驗證的氣體處理技術和超高真空技術而開發的，並以其原始技術進行連貫製造。透過採用最新技術來應對複雜的半導體製造產品，提高其可靠性和有效性。
TNSC MOCVD的獨特基礎技術:
日酸MOCVD機台針對不同晶圓基材及產品用途，開發了不同機型:
優點:
- 磊晶速度快
- 碳背景濃度較可調控和具彈性
- 可提高InGaN的長晶溫度
- 可提高AlGaN中的Al的濃度
- 可使用常壓或低壓的長晶方式
- 可提供從氣體供應到廢棄處理，一站式服務
應用:
廣泛應用到RGB到UV的LED、HEMT、PN Diodes、Laser等產品
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